透明导电氧化物薄膜（TCO）是光电及光伏薄膜器件的重要组成部分，作为透明电极广泛应用于大面积平板显示屏、薄膜太阳能电池、LED 照明系统及智能窗玻璃等领域。

现有TCO由于过度依赖稀缺金属铟，不适用于大面积应用，发展无铟TCO是光电薄膜领域目前国际前沿发展的重要方向之一，我们开发的新型TCO薄膜在成本、工艺与环保上都具有明显的优势，产品面向市场后将具备较强的价格、环境竞争力，而且有效的规避了昂贵的知识产权费用。

我们的项目利用射频激发产生高密度、大流量的等离子体流，并通过电磁控制对其实现随心导向，从而可实现高速沉积成分均匀、组织致密的薄膜材料。外源高密度等离子体发生装置是新技术的关键，外源高密度等离子体的有效调控使得其适用于各种高性能功能薄膜的生产，从而彻底改变镀膜产业的技术现状，实现低成本高品质的制造。相对传统镀膜技术，外源等离子体溅射技术优势明显，装备市场潜力巨大，未来将形成“材料-技术-装备”一体化的产业链，形成百亿级产业。

项目产品具备竞争优势。一是等离子控制技术国际领先，克服了磁控溅射的技术缺点，适于磁性材料的高效溅射沉积，可实现大于80%的高靶材利用率，现有磁控溅射的靶材利用率在30%左右；成膜速率每分钟可达到百纳米级别，现有磁控溅射成膜速率在几纳米到几十纳米之间；大大节约了各种能源、水、电、气的消耗，具有低能耗、减碳排、无污染的特点。二是薄膜及界面质量高，可在包括柔性塑料在内的各种基底材料上实现大面积高效率连续薄膜沉积。三是涵盖了所有材料领域：金属、无机，甚至磁性材料的溅射，该系统配备了多个DC/RF自有切换的多种靶材，可以利用金属、无机、化合物、组合等多种靶材。同时解决了长期以来困扰人们的磁性材料的溅射问题。四是低碳节能，远源等离子体溅射还有很多其他优势，新的生产技术，溅射速度高，每分钟可达几百纳米，生产效率提高50倍以上，大大节约了电力的成本。由于新型的等离子体控制技术，能量分布均匀，摈除了局域分布的高能等离子束，避免的这部分离子束造成的电力消耗。结合生产效率的提高，综合电力消耗节约50%以上。适合高速率、高质量、大面积生产。